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公開號
201921126 
專利名稱 用於量測在半導體基板上製造的特徵之參數的方法和設備
METHODS AND APPARATUS FOR MEASUREMENT OF A PARAMETER OF A FEATURE FABRICATED ON A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
公開日 2019/06/01
申請日 2018/07/17
申請號 107124567
國際分類號
/IPC
G03F-007/20(2006.01)
公報卷期 17-11
發明人 帕薩瑞可 馬克辛 PISARENCO, MAXIM;
凡 可拉吉 馬可斯 傑拉度 馬堤司 瑪麗亞 VAN KRAAIJ, MARKUS GERARDUS MARTINUS MARIA;
高爾登 賽巴斯汀亞努斯 安德里亞努斯 GOORDEN, SEBASTIANUS ADRIANUS
申請人 荷蘭商ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V. 荷蘭 NL
代理人 林嘉興
優先權
歐洲專利局 EP17181913 20170718
歐洲專利局 EP18153569 20180126
摘要 本發明提供用於估計一基板上製造之一特徵之至少一個所關注參數的方法及設備,該特徵包含複數個結構參數,該等結構參數包含該至少一個所關注參數及一或多個有礙參數。一接收器接收自該基板上之一或多個經量測特徵散射之輻射;一光瞳產生器產生該接收到的輻射之一未經處理光瞳表示;一矩陣乘法器使變換矩陣乘以該未經處理光瞳表示之像素中之每一者之強度以判定該等有礙參數之影響經緩解或移除之一經後處理光瞳表示;以及一參數估計器基於該經後處理光瞳表示估計該至少一個所關注參數。 Methods and apparatus for estimation of at least one parameter of interest of a feature fabricated on a substrate, the feature comprising a plurality of structure parameters, the structure parameters comprising the at least one parameter of interest and one or more nuisance parameters. A receiver receives radiation scattered from one or more measured features on the substrate; a pupil generator generates an unprocessed pupil representation of the received radiation; a matrix multiplier multiplies the transformation matrix with the intensities of each of the pixels of the unprocessed pupil representation to determine a post-processed pupil representation in which the effects of the nuisance parameters are mitigated or removed; and a parameter estimator estimates the at least one parameter of interest based on the post-processed pupil representation.
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