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公告號
I662381 
專利名稱 用於組態參數判定製程之方法和系統、用於量測圖案化製程之物件之度量衡設備、及電腦程式產品
METHOD AND SYSTEM FOR CONFIGURING A PARAMETER DETERMINATION PROCESS, METROLOGY APPARATUS FOR MEASURING AND OBJECT OF A PATTERNING PROCESS, AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT
公告日 2019/06/11
證書號 I662381
申請日 2017/03/01
申請號 106106738
國際分類號
/IPC
G03F-009/00(2006.01);G03F-007/20(2006.01);G06F-017/50(2006.01)
公報卷期 46-17
發明人 凡 力司特 雅得安 喬漢 VAN LEEST, ADRIAAN JOHAN;
柴特瑪司 艾納諾斯堤斯 TSIATMAS, ANAGNOSTIS;
希尼 保羅 克利絲丁安 HINNEN, PAUL CHRISTIAAN;
麥克 納馬拉 艾略特 葛雷德 MC NAMARA, ELLIOTT GERARD;
沃馬 艾羅克 VERMA, ALOK;
休威斯 湯馬士 THEEUWES, THOMAS;
克瑞馬 雨果 奧格斯提納斯 約瑟夫 CRAMER, HUGO AUGUSTINUS JOSEPH
申請人 ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V. 荷蘭 NL
代理人 林嘉興
優先權
美國 62/301,880 20160301
美國 62/435,662 20161216
美國 62/435,670 20161216
美國 62/435,649 20161216
美國 62/435,630 20161216
美國 62/458,932 20170214
參考文獻 US2009/0224413A1
US2013/0135600A1
WO2009/100867A1
WO2010/034674A1
WO2011/151121A1
WO2015/082158A1
審查人員 盧贊文
摘要 一種組態一參數判定製程之方法,該方法包括:獲得一結構之一數學模型,該數學模型經組態以在運用一輻射光束照明該結構時預測一光學回應,且該結構在一標稱實體組態下具有幾何對稱性;藉由一硬體電腦系統使用該數學模型以模擬該結構之該實體組態中的為某一量之一擾動,以判定複數個像素中之每一者中的該光學回應之一對應改變以獲得複數個像素敏感度;及基於該等像素敏感度,判定為了得到與該實體組態之改變相關聯的一參數之一值而與一基板上之該結構之經量測像素光學特性值結合之複數個權重,每一權重對應於一像素。
縮圖尺寸