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公告號
I663486 
專利名稱 量測方法、器件製造方法、度量衡設備及微影系統
METHOD OF MEASURING, DEVICE MANUFACTURING METHOD, METROLOGY APPARATUS, AND LITHOGRAPHIC SYSTEM
公告日 2019/06/21
證書號 I663486
申請日 2018/04/09
申請號 107112022
國際分類號
/IPC
G03F-007/20(2006.01);G01J-001/24(2006.01)
公報卷期 46-18
發明人 帕迪 尼特許 PANDEY, NITESH;
廉晉 LIAN, JIN;
拉赫曼 薩米 烏爾 REHMAN,SAMEE UR;
賈克 馬丁 賈庫柏斯 喬漢 JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN
申請人 荷蘭商ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V. 荷蘭 NL
代理人 林嘉興
優先權
歐洲專利局 17166691.0 20170414
歐洲專利局 18156860.1 20180215
參考文獻 TW201614188A
TW201702588A
TW201702750A
審查人員 呂燦
分割子案108116838
摘要 本發明揭示用於量測形成於一基板上之複數個結構之方法及設備。在一項配置中,一種方法包含自一第一量測程序獲得資料。該第一量測程序包含個別地量測該複數個結構中之每一者以量測該結構之一第一屬性。一第二量測程序用以量測該複數個結構中之每一者之一第二屬性。該第二量測程序包含運用輻射來照明每一結構,該輻射具有針對彼結構使用用於該結構之該經量測第一屬性而個別選擇的一輻射屬性。
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