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  案件狀態     權利異動  
公告號
I664664 
專利名稱 微影製程和設備及檢測製程和設備
LITHOGRAPHIC PROCESS & APPARATUS AND INSPECTION PROCESS AND APPARATUS
公告日 2019/07/01
證書號 I664664
申請日 2017/12/26
申請號 106145713
國際分類號
/IPC
H01L-021/027(2006.01);G03F-007/20(2006.01)
公報卷期 46-19
發明人 泰爾 溫 提波 TEL, WIM TJIBBO;
卡陶 漢斯 艾瑞克 KATTOUW, HANS ERIK;
奧提尼 瓦雷利歐 ALTINI, VALERIO;
莫依司特 比爾愛曲 MOEST, BEARRACH
申請人 荷蘭商ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B.V. 荷蘭 NL
代理人 林嘉興
優先權
歐洲專利局 16207472.8 20161230
參考文獻 US2015/0356233A1
審查人員 湯欽全
分割子案108119110
摘要 本發明揭示一種控制一微影製程之微影設備及關聯方法。該微影設備包含一控制器,該控制器經組態以界定與一基板在該微影設備內之定位相關聯的一控制柵格。該控制柵格係基於與一圖案化器件相關聯之一器件佈局,該器件佈局界定在一微影製程中待施加至及/或已經施加至該基板之一器件圖案。
縮圖尺寸